半導(dǎo)體精密清洗的目的是為了保證半導(dǎo)體的良品率,實(shí)際上,半導(dǎo)體精密清洗并非簡單地在水里走幾圈,而是實(shí)實(shí)在在的一套工藝,屬于先進(jìn)制造設(shè)備范疇,其中涉及許多物理和化學(xué)課題。那么這里所說的精密清洗有哪些方式呢,下面給大家詳細(xì)介紹下。
根據(jù)清洗介質(zhì)的不同,半導(dǎo)體精密清洗分為濕法精密清洗和干法精密清洗。
濕法精密清洗:指采用去離子水和化學(xué)溶劑,輔以超聲波、加熱、真空等物理方法,對半導(dǎo)體表面進(jìn)行清洗,隨后加以濕潤再干燥,以去除半導(dǎo)體制造過程中的污染物。濕法清洗過程化學(xué)藥液基本相同,不同工藝主要差別在于輔助方法,也是濕法精密清洗工藝的主要難點(diǎn)。
干法精密清洗:指不使用化學(xué)溶劑的清洗技術(shù),雖然它可清洗污染物比較單一,但在28nm及更先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的邏輯產(chǎn)品和存儲產(chǎn)品中至關(guān)重要。
雖然清洗步驟中90%使用的都是濕法清洗技術(shù),但在半導(dǎo)體制造中,干法和濕法在短期無法互相替代,并在各自領(lǐng)域向更先進(jìn)方向發(fā)展。
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